事实上，早在华为2004年成立海思半导体，其在半导体芯片领域的雄心也日渐明显。

《今日财富》发现，由华为100%持股的哈勃投资，成立至今共涉及对外投资38项，多以半导体产业企业为主，涵盖模拟芯片、碳化硅材料、功率芯片、人工智能芯片、车载通讯芯片、连接器等业务领域。所投企业包括瀚天天成、纵慧芯光、九同方微电电子、山东天岳、天科合达、中蓝电子、思瑞浦、鲲游光电、非谱电子、裕泰微电子等。

华为此次参与投资的科益虹源是一家专业准分子激光技术解决方案提供商，其主营业务为光刻机光源系统，是制造光刻机的核心技术之一。而光刻机又为芯片制造环节的关键设备。有报道称，科益虹源曾于2018年自主设计开发国内首台高能准分子激光器，这在当时打破国外厂商的长期垄断。

除了业务实力，科益虹源背后的股东力量也引人注目，不仅有中科院微电子研究（持股26.6%），还有北京亦庄国投、中科院控股成员企业等。

（数据来源：天眼查）

《今日财富》了解到，科益虹源集成电路光刻光源制造及服务基地项目已于今年4月开工建设。该项目总投资5亿元，年产RS222型光刻准分子激光器、光刻用准分子激光器、405光纤耦合头等各类设备30台。

“下一步，我们还将依托核心零部件国产化能力建设专项及核心关键技术的衍生转化，在徐州逐步落地一个集成电路产业上下游集群：特种高压电源、纳米晶磁芯、高能工业准分子激光器、直写激光器光源、集成电路检测光源等。”科益虹源项目负责人曾表示。

随着全球半导体需求持续高涨，国内半导体企业具备国产替代不可逆的机遇。华为此举不仅为进一步完善产业链，也有利于建立起自身更牢固的技术“壁垒”。

目前我国半导体设备中，光刻机的国产化率最低，不足1%，仅上海微电子能实现90nm制程的量产，而光刻机占整个半导体设备市场份额的20%，国产替代有望加速。

方正证券研报指出，实现光刻机的国产替代并不是某一企业能够单独完成的，需要光刻产业链的顶尖企业相互配合。

据了解，光刻产业链可拆分为两部分：一是光刻机核心组件，包括光源、镜头、双工作台、浸没系统等关键子系统；二是光刻配套设施，包括光刻胶、光掩模版、涂胶显影设备等。其中，光刻胶是重中之重。

在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，那么光刻胶便是这部“引擎”的“燃料”，可决定半导体图形工艺的精密程度和良率。

按应用领域分类，光刻胶可分为印制电路板（PCB）光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。目前，国内光刻胶以PCB用光刻胶为主，显示面板、半导体用光刻胶供应量占比极低。

半导体研究机构芯谋研究的研究总监王笑龙指出，国内部分号称量产光刻胶的企业，其实出货并不多，因为光刻胶生产出来后还要拿去晶圆厂进行大量验证，并不是短时间就能实现替代，但是国内能实现量产就代表有了更多选择。

（图表：《今日财富》根据公开资料整理）

对此，《今日财富》根据公开资料梳理发现，目前在光刻胶方面有实质进展的主要有南大光电、广信材料、晶瑞股份、彤程新材、上海新阳、容大感光等公司，其中，南大光电、晶瑞股份、上海新阳有明确披露的研发投入费用。

南大光电近日公告，公司自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。业界认为，产品的认证通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了重大突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。

目前，该公司首条ArF光刻胶生产线已投产，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。项目完全达产后，可实现约10亿元的年销售额。

南大光电透露：“用于质量检测的光刻机等量测设备是国外进口的，我们已经配备了，运转良好，没有被卡的顾虑。主要原材料是自己开发和生产的，没有被卡风险。生产设备是联合国内企业研制的，也不存在被卡风险”。

其表示，通过技术深化、上游原材料、配套材料的研发以及产业化等内容，将加速实现ArF光刻胶全产业链进口替代。

另据悉，目前晶瑞股份的KrF光刻胶已完成中试，正在加快推进相关产品的下游客户验证。今年1月，晶瑞股份发布公告称，公司从韩国进口的二手ASML浸没式光刻机到货，可用于研发高端的ArF光刻胶。

（图表：东方财富Choice数据，《今日财富》整理）

光刻胶业务的吃香不仅反映在投资建设层面，在二级市场也一样火热。

近日，受日本信越化学因地震或将“断供”光刻胶叠加华为投资光刻机事件影响，相关概念股纷纷走强，迎来一波上涨行情，多只个股均有不同幅度的上涨。

据电子材料市场研究与咨询服务公司TECHCET预测，2021年半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11％，达到19亿美元。从抗蚀剂类型看，2020年和2021年的光刻胶市场，用于KrF和浸入式ArF的光刻胶市场较高。对于极紫外光刻（EUV），应用范围正在从逻辑芯片扩展到DRAM。2021年的EUV光刻胶市场将超过2000万美元，并且此后还将继续增长，预计到2025年将超过2亿美元。

智研咨询预测，2022年中国大陆半导体光刻胶市场空间将会接近55亿元，是2019年的两倍。

《今日财富》研究发现，目前全球半导体光刻胶市场主要被日本企业垄断，并在越高端的市场垄断地位越明显。全球半导体光刻胶龙头厂商是TOK（东京应化）、信越化学、JSR（日本合成橡胶）、住友化学、富士胶片等日企和美国陶氏化学，这些龙头企业总计占据各半导体光刻胶细分领域超过85%市场份额，其中头部日企在各个细分领域都占据主导地位。

光刻机类似，荷兰ASML作为全球光刻机行业的标杆，市场份额最大，市占率超过60%，并垄断了EUV光刻机市场。公司产品包括光刻机、量测设备以及计算光刻解决方案。此外，尼康光刻机集中在中高端区域，佳能集中在低端区域，全球光刻机行业以这三家为主。

清华大学工程物理系教授唐传祥曾表示， EUV光刻机的自主研发还有很长的路要走，这需要SSMB EUV光源的持续科技攻关，也需要上下游产业链的配合，才能获得真正成功。

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